EUV光刻机核心技术全面突破，欧美要开始妥协了？
圈聊科技
2023/02/15 13:01
在“芯片规则”开始实施之后，国人随之开始关注半导体产业，各大高校也把集成电路纳入了一级学科，中企开始全力参与技术的研发，民众对于整个行业也有了一个较为清晰的认知。
而作为高端芯片制造最核心的设备EUV光刻机，目前只有荷兰的ASML能够制造，受到相关限制的影响，国内无法获取到任何一台，这也导致最顶尖的制造工艺被卡在了14nm，因此启动设备的自主化刻不容缓。
哈工大心领神会积极组建团队参与技术突破，近期官宣了一项名为“高速超精密激光干涉仪”研究成果，接连的三次立功，EUV光刻机核心技术连接突破，是否足够让欧美妥协呢？
哈工大三度立功
超过10万的零部件，背后有20多个国家提供核心技术，才“组装”出了EUV光刻机，而其中美技术体系大量渗入，自主化技术不足10%。ASML可以说根本无法实现自主化，这也导致中国丧失了自主经营权，这也是无法出货中国市场的主要原因。
对于中企而言，要想实现EUV光刻机的国产化，还是要依靠于全球供应链，超10万的零部件不可能全部自主化，就算可以、我们也没有足够的时间可以等待，因此首要任务是摆脱对含美技术的依赖。
欧洲国家已经有相对应的先进技术进牵制，类似华为5G、量子计算机等等，唯独是老美“油盐不进”，虽然现阶段急需EUV光刻机，但国内对于研发进度依旧采取“厚积薄发”的方式。
目前全球范围内能制造光刻机的企业不过四家，分别为荷兰的ASML、日本的佳能、尼康以及中国的上海微电子，但中国能够量产的水平仅为90nm，不足以维持现有科技产业的发展，而两家日企也只能实现低端光刻机的出货，ASML则完全垄断了中高端光刻设备市场。
鉴于芯片规则的不断升级，即便是五年之后，获取EUV光刻机的可能性也非常的小，因此只能把希望寄托在自主研发上，而哈工大成为了这个过程中的关键因素。
就在近期，哈工大再次官宣了好消息，突破了“高速超精密激光干涉仪”技术，经过证实可以被应用于350nm-28nm工艺间的光刻机样机集成研制以及性能测试等等。
此外负责人还表态：“这项技术的突破，将会为后续7nm及以下的光刻机节点突破，提供重要的基础理论。”
要知道这已经是哈工大的三度立功了，此前还分别突破了EUV光源技术，已经实现了和ASML的同级别，同时核心的双工件台技术，也是该校的研发团队也做出了突出的贡献，核心技术的接连突破，能否让欧美国家妥协呢？
能否实现EUV光刻机自主化
最新突破的“高速超精密激光干涉仪”技术，主要是面向高端装备领域的测量题问题，激光的精度和准度提升都需要用到，是EUV光刻机核心应用技术，很早之前就传出了对应的苗头，如今哈工大的官宣，意味着这项技术已经实现了突破。
EUV光刻机并非是ASML独有的，可以说是集结了全人类的智慧产物，但却因为采用了含美的技术，被加入到了限制范畴中，这对于全球市场而言是极其不公平的，一意孤行的连锁反应逐步呈现，技术去美化已经成为了国际主流趋势。
而哈工大接连突破的激光技术、双工件台、激光干涉仪等等技术，基本都是老美所涉及的核心技术，如果能够有效实现应用，是能够从技术层面进行牵制的，中国已经拥有了让人“等价互换”的条件。
在华为5G诞生之后，欧洲国家根本不在乎什么技术落后，全面和华为展开了合作，后面之所以会单方面中断合作，都是因为老美在背后怂恿，总的来说只要我们自身的技术过硬，欧洲国家是很容易妥协的，难啃的“硬骨头”在于老美身上。
值得庆幸的是，国产的科研脚步已经迈开了，光刻机产业生态固然重要，但也并非是全部，目前在颠覆性技术的研发上，国内已经取得了重大的突破，一旦技术被成功商用，欧美国家想不妥协都难了。
目前量子芯片生产线已经投产，成品的“悟空”量子芯片已经进入调试阶段，后续将诞生国内最强的量子计算机，光子芯片生产线也将在2023年投产，欧美的技术优势不再明显了，对此你们是怎么看的呢？
内容来自UC
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发表于 2023-2-15 19:49
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