关于光刻机的一点点儿硬知识

徐公孰

EUV光源的制备：

❶高纯度锡（>99.999wt.%）在真空液滴发生器里每分钟连续产生超过300万个27μm的液滴。

❷二氧化碳激光器用产生连续脉冲照射锡液滴，滴形成电离子体，产生数千瓦EUV光。（LPP）

❸多重聚光镜系统将13.5nm光导引至光刻胶上，此过程中需要氢气保护镜头

❹曝光后以≤0.25 nm的分辨率定位晶圆。光源不动，晶圆工台自动调整。

费ASML这么大劲儿，就是一个目的：要生成用于光刻的13.5nm光。


中国在很多环节上做不到，做不精，于是釜底抽薪，在北京建设大型稳态微聚束同步加速器。2019年开建，现在主体工程差不多完成。

这玩意儿能直接输出13.5nm光，而不是光刻机那样层层过滤出来的光。而且可以输出各种光，5nm光，3.5nm光，1.5nm光……芯片厂说要有光，科学家设定各种新参数，于是有了光，有各种光。

除了北京的大型光设备，长光所也在制DPP，与LPP不一样。

中国两条腿走路，走的都不慢~

徐公孰

争论相关问题时可以引用

论金

不明觉厉。

论金

说光刻机有十几万个零部件。综合了全球大堆国家的优势，所以难。

其实我觉得这十几万个零部件，大部分都不是什么大难题，也就最顶尖的那几样难搞。之所以是很多国家技术优势的集合，不是因为难，而是因为技术发展路径，技术发展路径依赖于市场回报。

中国产业齐全，可以理解为所有技术都有经济回报，所以，中国能够全面发展所需要的技术。
那些国家所谓的技术优势，恰恰说明他们都只能做某部分的优势技术路径。

这叫技术的路径依赖。

徐公孰

论金 发表于 2023-9-21 14:02
说光刻机有十几万个零部件。综合了全球大堆国家的优势，所以难。

其实我觉得这十几万个零部件，大部分都 ...

这个事情不是假的，是真难。不仅仅是工艺技术上难，基础科学理论研究都很难，在制造出光刻机之前，美国大学至少研究50年的基础理论。

不仅仅是材料和设备上不行，科学基础理论跟不上

东方安澜-

没错。

在光源问题上，现在中国是另避蹊径了，是做SSMB光源。

是清华与德国的亥姆霍兹柏林中心及德国联邦技术物理研究院合作，进行原理验证实验的，

2018年开始，在2021年得出了比较扎实比较成功的数据。

现在中国在雄安，就是建这个大型稳态微聚束环形加速器用于SSMB光源。投资很大。

非常值得期待。

论金

徐公孰 发表于 2023-9-21 14:06
这个事情不是假的，是真难。不仅仅是工艺技术上难，基础科学理论研究都很难，在制造出光刻机之前 ...

科研难，但抄的简单，不用做理论的可行性探索。
这两件事有本质意义上的不同。

论金

所谓的落后多少年，是按照研发速度来计算的。而不是按照抄袭速度来计算的。

徐公孰

论金 发表于 2023-9-21 14:08
科研难，但抄的简单，不用做理论的可行性探索。
这两件事有本质意义上的不同。

不是的。

做逆向工程，照葫芦画瓢是很粗糙的

只有自己能搞出数学模型，根据数学模型可以随意定出各种工程变型，那才叫独立自主

若要搞出数学模型，没有基础理论的发现是不可能的

徐公孰

东方安澜- 发表于 2023-9-21 14:07
没错。

在光源问题上，现在中国是另避蹊径了，是做SSMB光源。

所以说吧，闷声发大财

吵吵闹闹得最激烈的时候，已经成功在望~

东方安澜-

论金 发表于 2023-9-21 14:09
所谓的落后多少年，是按照研发速度来计算的。而不是按照抄袭速度来计算的。

抄袭，还有一个说法，叫"逆向开发"，全世界技术领域都通用。

论金

徐公孰 发表于 2023-9-21 14:11
不是的。

做逆向工程，照葫芦画瓢是很粗糙的

其实是一样的。
大概意思，就是别人做出来的，我只是不知道具体的算法，但我知道方向就是哪个。
不用在方向上浪费时间。
创造和抄袭，是完全不一样的速度。
走在最前沿的有技术领先优势，但是也是风险最大的，最慢的。后面抄袭的会快很多。
你看看原子弹也是一样的，知道这个东东可以实现，很多国家就朝这个方向努力。总会破解的。

论金

东方安澜- 发表于 2023-9-21 14:13
抄袭，还有一个说法，叫"逆向开发"，全世界技术领域都通用。

有点后发先至的优势的，因为可以借鉴。

没有参照物之后，大家就在同一起跑线了。中国到那时候才是真正的创新。

现在所有的基础模型都是美国搭建的，这才是牛逼之处。中国要等到技术上完全赶上之后，才会在基础模型上创新。

东方安澜-

论金 发表于 2023-9-21 14:09
所谓的落后多少年，是按照研发速度来计算的。而不是按照抄袭速度来计算的。

抄袭，就是逆向开发，理论研究常用的方法。就是先有结论，然后往前推，看看有什么值得改进的地方？如果有重大改进，就是进步。

东方安澜-

论金 发表于 2023-9-21 14:16
有点后发先至的优势的，因为可以借鉴。

没有参照物之后，大家就在同一起跑线了。中国到那时候才是真正 ...

哈哈!说的没错。

其实猴急不是后面得中国，恰恰是美国。

任何技术发展都会有"瓶颈"，或者是到极限位置。

当它到了这个位置后，就几乎停滞不前了！而在后面追的却是大踏步的前进!

猴急的是谁？哈哈

论金

东方安澜- 发表于 2023-9-21 14:18
抄袭，就是逆向开发，理论研究常用的方法。就是先有结论，然后往前推，看看有什么值得改进的地方？如果有 ...

是的。这么说就是对的，先知道结论了，再去研发。快很多的。

论金

东方安澜- 发表于 2023-9-21 14:23
哈哈!说的没错。

其实猴急不是后面得中国，恰恰是美国。

所以为什么说时间在中国这边。规模比他们大啊。

东方安澜-

论金 发表于 2023-9-21 14:27
是的。这么说就是对的，先知道结论了，再去研发。快很多的。

是啊！还比如，芯片晶体大小是有物理极限的。半导体再小，也不可能小于硅原子的直径及最少囊括一个完整的晶格。它极限尺寸大约是0.6纳。

这个物理极限，就无法突破。

荷兰现在做的据说是2纳，接近物理极限位置了。

中国现在都从600纳能做到28纳了，他们能不猴急?

哈哈!

山南海北一顿逛

光刻机就是把集成电路设计缩小了，以前用的集成块是人工做的，现在芯片是高密度集成块，芯片就是集成块的名词，就是内存变大，外型变小，一般用于高科技，
另外芯片都是空的，用的时候写0和1的程序。说白了就是数码电路。
这里谁懂电子行业的有不同意见的可以发表意见，可以百度

山南海北一顿逛

其实就是一堆pn结和线路板变成高密度组合

薄荷味

这个知识受用哦