EUV光刻机核心技术全面突破,欧美要开始妥协了?
圈聊科技
2023/02/15 13:01
在“芯片规则”开始实施之后,国人随之开始关注半导体产业,各大高校也把集成电路纳入了一级学科,中企开始全力参与技术的研发,民众对于整个行业也有了一个较为清晰的认知。
而作为高端芯片制造最核心的设备EUV光刻机,目前只有荷兰的ASML能够制造,受到相关限制的影响,国内无法获取到任何一台,这也导致最顶尖的制造工艺被卡在了14nm,因此启动设备的自主化刻不容缓。
哈工大心领神会积极组建团队参与技术突破,近期官宣了一项名为“高速超精密激光干涉仪”研究成果,接连的三次立功,EUV光刻机核心技术连接突破,是否足够让欧美妥协呢?
哈工大三度立功
超过10万的零部件,背后有20多个国家提供核心技术,才“组装”出了EUV光刻机,而其中美技术体系大量渗入,自主化技术不足10%。ASML可以说根本无法实现自主化,这也导致中国丧失了自主经营权,这也是无法出货中国市场的主要原因。
对于中企而言,要想实现EUV光刻机的国产化,还是要依靠于全球供应链,超10万的零部件不可能全部自主化,就算可以、我们也没有足够的时间可以等待,因此首要任务是摆脱对含美技术的依赖。
欧洲国家已经有相对应的先进技术进牵制,类似华为5G、量子计算机等等,唯独是老美“油盐不进”,虽然现阶段急需EUV光刻机,但国内对于研发进度依旧采取“厚积薄发”的方式。
目前全球范围内能制造光刻机的企业不过四家,分别为荷兰的ASML、日本的佳能、尼康以及中国的上海微电子,但中国能够量产的水平仅为90nm,不足以维持现有科技产业的发展,而两家日企也只能实现低端光刻机的出货,ASML则完全垄断了中高端光刻设备市场。
鉴于芯片规则的不断升级,即便是五年之后,获取EUV光刻机的可能性也非常的小,因此只能把希望寄托在自主研发上,而哈工大成为了这个过程中的关键因素。
就在近期,哈工大再次官宣了好消息,突破了“高速超精密激光干涉仪”技术,经过证实可以被应用于350nm-28nm工艺间的光刻机样机集成研制以及性能测试等等。
此外负责人还表态:“这项技术的突破,将会为后续7nm及以下的光刻机节点突破,提供重要的基础理论。”
要知道这已经是哈工大的三度立功了,此前还分别突破了EUV光源技术,已经实现了和ASML的同级别,同时核心的双工件台技术,也是该校的研发团队也做出了突出的贡献,核心技术的接连突破,能否让欧美国家妥协呢?
能否实现EUV光刻机自主化
最新突破的“高速超精密激光干涉仪”技术,主要是面向高端装备领域的测量题问题,激光的精度和准度提升都需要用到,是EUV光刻机核心应用技术,很早之前就传出了对应的苗头,如今哈工大的官宣,意味着这项技术已经实现了突破。
EUV光刻机并非是ASML独有的,可以说是集结了全人类的智慧产物,但却因为采用了含美的技术,被加入到了限制范畴中,这对于全球市场而言是极其不公平的,一意孤行的连锁反应逐步呈现,技术去美化已经成为了国际主流趋势。
而哈工大接连突破的激光技术、双工件台、激光干涉仪等等技术,基本都是老美所涉及的核心技术,如果能够有效实现应用,是能够从技术层面进行牵制的,中国已经拥有了让人“等价互换”的条件。
在华为5G诞生之后,欧洲国家根本不在乎什么技术落后,全面和华为展开了合作,后面之所以会单方面中断合作,都是因为老美在背后怂恿,总的来说只要我们自身的技术过硬,欧洲国家是很容易妥协的,难啃的“硬骨头”在于老美身上。
值得庆幸的是,国产的科研脚步已经迈开了,光刻机产业生态固然重要,但也并非是全部,目前在颠覆性技术的研发上,国内已经取得了重大的突破,一旦技术被成功商用,欧美国家想不妥协都难了。
目前量子芯片生产线已经投产,成品的“悟空”量子芯片已经进入调试阶段,后续将诞生国内最强的量子计算机,光子芯片生产线也将在2023年投产,欧美的技术优势不再明显了,对此你们是怎么看的呢?
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